Centre de fabrication pour la photonique du Canada

Notre installation

Nous pouvons fabriquer des dispositifs dans une variété de matériaux, notamment :

• l'arsénure de gallium (GaAs);
• le phosphure d'indium (InP); et
• le nitrure de gallium (GaN).

Nous offrons des services de fonderie ou de fabrication de bout en bout de dispositifs photoniques, de circuits intégrés photoniques et d'électronique en nitrure de gallium. Nous pouvons également mettre au point de nouvelles technologies de procédés pour les dispositifs de nos clients.

Pourquoi collaborer avec nous

En tirant parti des années de développement de la propriété intellectuelle des procédés, nous créons des flux de procédés personnalisables pour des composants complexes, et ce, en très peu de temps.

En plus de la fabrication, nous offrons des services de conception et d'essai et disposons d'une gamme d'outils de contrôle de la qualité et d'analyse des défaillances pour l'assurance de la qualité et le dépannage en milieu et en fin de procédé.

Nos compétences

Notre CFPC est une installation de 40 000 pi² (3716 m²), dont 11 000 pi² (1022 m²) de salle blanche de classe 100/1000, offrant une gamme complète de procédés perfectionnés et d'activités de soutien.

Notre équipe examine les exigences du client et le conseille sur la structure de la plaquette et le procédé de fabrication appropriés pour obtenir les performances du dispositif nécessaires à son application. Nous pouvons utiliser des masques photographiques fournis par le client ou développer un nouvel ensemble de masques pour la séquence du procédé. Un système d'exécution de la fabrication conçu sur mesure est utilisé pour la collecte des données et le suivi des matériaux tout au long du procédé de fabrication. Cela permet de garantir que toutes les plaquettes fabriquées sont entièrement caractérisées et répondent aux spécifications requises.

Nos compétences complémentaires

• Sonde ionique (SIMS)
• Nanosonde Auger (AES)
• Spectromètre photoélectronique à rayons X (XPS)
• Microscope électronique à transmission et par émission électronique de champs (TEM)
• Microscope à force atomique (MFA)
• Diffractomètres à rayons X (XRD)
• Microscope à double faisceau d'ions focalisés (FIB)

Notre offre de services

• Services de fonderie : croissance épitaxiale (dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques [MOCVD], épitaxie par faisceaux moléculaires [MBE] et épitaxie par faisceaux chimiques [CBE]), dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma (PECVD), lithographie par projection et par faisceau d'électrons, métallisation, gravure au plasma et transformation en fin de procédé
• Conception et modélisation : pour dispositifs et circuits afin d'améliorer la productivité, la conception globale et les performances des circuits
• Essais et caractérisations : essais pour dispositifs optiques et électroniques, et analyse des surfaces et des matériaux