Services de fonderie – dispositifs photoniques

 

Aperçu des services techniques

Notre Centre canadien de fabrication de dispositifs photoniques (CCFDP) est une installation de calibre mondial proposant une gamme complète de services en fabrication et production précommerciale de dispositifs photoniques et de circuits photoniques intégrés. De nombreux services sont offerts contre rémunération, y compris la conception, la modélisation, l’épitaxie, la fabrication de même que les essais et la caractérisation.

Ce que nous offrons

Forts d’une longue expérience dans l’industrie et d’installations à la fine pointe de la technologie, nos experts conçoivent des solutions de fonderie qui conviennent aux premiers stades du prototypage comme à la production de dispositifs photoniques en petite ou en moyenne quantité à partir de semi-conducteurs III à V, de circuits photoniques intégrés et d’électronique au nitrure de gallium (GaN). Nous comprenons très bien les technologies et les applications des produits actuelles, ainsi que les procédés de fabrication commerciaux usuels employés dans l’industrie.

Épitaxie

Nous exploitons un réacteur pour le dépôt chimique en phase vapeur par composés organométalliques (MOCVD) pour l’élaboration et la fabrication de dispositifs à base d’arséniure de gallium (GaAs) et de phosphure d’indium (InP).

Dépôt diélectrique

Nous avons recours à la fois au dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma (PECVD) et aux procédés de dépôt par rotation pour aplanir les diélectriques, les passiver et y intégrer diverses fonctions par isolement des métaux entre eux

Les diélectriques obtenus grâce au dépôt par rotation comprennent des matériaux dont les motifs ajoutés par photogravure ou par gravure se caractérisent par une faible rétraction, mais aussi une excellente stabilité mécanique et électrique.

Dépôt en phase vapeur (PVD)

Nous avons recours à l’évaporation par faisceau d’électrons pour superposer les métaux de contact et d’interconnexion. L’utilisation de systèmes de verrouillage de charge assure une qualité optimale de la capacité de métallisation.

Lithographie

Nous possédons un équipement de lithographie important qui nous permet de fabriquer des dispositifs photoniques et électroniques complexes. Le recours au procédé de lithographie avec répéteurs de ligne-I assure une résolution de moins de 400 nm et le dépôt de couches de 60 nm. S’ajoute à ce procédé un système d’écriture directe par faisceau d’électrons, à cassette, avec plaquettes multiples offrant une résolution de 5 nm et possédant une capacité de choix de combinaisons des répéteurs.

Gravure par plasma

Nous utilisons la gravure par plasma inductif et la gravure ionique réactive(RIE) pour fabriquer des dispositifs photoniques et électroniques complexes. Le traitement par lot et de cassette à cassette permet de graver sur des matériaux diélectriques et sur des matériaux pour semi-conducteurs III à V grâce à des procédés chimiques de gravure à chaud et à froid.

Transformation en fin de procédé

Nous avons la capacité d’amincir les plaquettes et de singulariser les bâtonnets par traçage et clivage ou découpage en dés. Le traitement peut également comprendre l’application d’un revêtement non réfléchissant ou à haute réflexion sur les facettes.

Pourquoi travailler avec nous

Le CNRC regroupe le plus grand nombre d’experts et d’installations en dispositifs photoniques, matériaux photoniques et fabrication de dispositifs semi-conducteurs au Canada. Ses chercheurs sont reconnus dans le monde entier pour être des chefs de file dans de nombreux domaines, dont la photonique du silicium, la conception de lasers à haute performance et la science des matériaux.

Nous avons travaillé avec des dizaines d’entreprises de photonique et d’importants acteurs de l’industrie. Le CNRC est la seule organisation du Canada à offrir à ses partenaires des services de soutien éprouvés, en amenant de nouveaux produits photoniques du stade conceptuel à leur commercialisation, en passant par le choix des matériaux et la mise au point de modèles.

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